Стартовая Предметный указатель Новости науки и техники
Новости науки и техники
ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНАЯ СВЕРХПРОВОДИМОСТЬ
Высокотемпературные сверхпроводники были открыты 18 лет назад, но по сей день остаются загадкой. Керамические материалы на основе оксида меди проводят электрический ток без потерь при намного более высокой температуре, чем обычные сверхпроводники, которая, впрочем, гораздо ниже комнатной. Далее...

скин-эффект

СКИН-ЭФФЕКТ - затухание эл--магн. волн по мере их проникновения в проводящую среду. Переменное во времени электрич. поле Е и связанное с ним магн. поле Н не проникают в глубь проводника, а сосредоточены в осн. в относительно тонком приповерхностном слое толщиной8041-2.jpg, называемой глубиной скин-слоя. Происхождение С--э. объясняется тем, что под действием внеш. перем. поля в проводнике свободные электроны создают токи, поле к-рых компенсирует внеш. поле в объёме проводника. С--э. проявляется у металлов, в плазме, ионосфере (на коротких волнах), в вырожденных полупроводниках и др. средах с достаточно большой проводимостью.

Глубина скин-слоя существенно зависит от проводимости8041-3.jpg, частоты эл--магн. поля w, от состояния поверхности. На малых частотах8041-4.jpg велика, убывает с ростом частоты и для металлов на частотах оптич. диапазона оказывается сравнимой с длиной волны8041-5.jpg см. Столь малым проникновением эл--магн. поля и почти полным его отражением объясняется металлич. блеск хороших проводников. На ещё больших частотах, превышающих плазменную частоту, в проводниках оказывается возможным распространение эл--магн. волн. Их затухание определяется как внутризонными, так и межзонными электронными переходами (см. Зонная теория).

Теоретич. описание С--э. сводится к решению кинетич. ур-ния для носителей заряда с целью определения связи тока с полем и последующему решению Максвелла уравнений. Наиб. просто описывается т. н. нормальный С--э., к-рый имеет место, когда8041-6.jpg велика по сравнению с эфф. длиной свободного пробега l электронов. Величина l определяется расстоянием, проходимым электроном за время8041-7.jpg между 2 актами рассеяния (8041-8.jpg - время релаксации) либо за период поля 1/w в зависимости от того, какая из этих длин меньше. В общем случае8041-9.jpg , где v - скорость электрона.

При нормальном С--э. распределение поля в проводнике зависит лишь от дифференц. проводимости8041-10.jpg, отличие к-рой от проводимости на пост. токе8041-11.jpg учитывается (для изотропной среды) соотношением8041-12.jpg8041-13.jpg ; оно зависит также от формы поверхности образца. Проводимость связана с диэлектрич. проницаемостью8041-14.jpg среды соотношением8041-15.jpg, где8041-16.jpg - вклад в диэлектрич. проницаемость локализованных электронных состояний (диэлектрич. проницаемость ионной решетки).

Для плоской поверхности образца (плоскость ху)и нормального падения волны (z) распределение поля в проводнике имеет вид
8041-17.jpg

где Е(0) - амплитуда поля на поверхности,8041-18.jpg , коэф. преломления п и затухания8041-19.jpg связаны соотношением8041-20.jpg, где диэлектрич. проницаемость8041-21.jpg (8041-22.jpg- диэлектрич. проницаемость решётки) (см. Высокочастотная проводимость).

Для цилиндрич. провода радиусом r0 распределение поля выражается через функцию Бесселя:
8041-23.jpg

где Е(r0) - поле на поверхности,8041-24.jpg С--э. существенно сказывается на зависимости сопротивления провода от его радиуса. В то время как на пост. токе сопротивление провода R длины L обратно пропорционально площади сечения8041-25.jpg , на переменном токе в предельном случае, когда ток течёт в очень тонком приповерхностном слое8041-26.jpg , сопротивление обратно пропорционально длине окружности поперечного сечения
8041-27.jpg

В пределе НЧ, когда можно не учитывать частотную дисперсию8041-28.jpg, а также пренебречь величиной8041-29.jpg, глубина скин-слоя:
8041-30.jpg

коэф. преломления:
8041-31.jpg

С повышением частоты в ИК-области для металлов при условии8041-32.jpg проводимость8041-33.jpg8041-34.jpg - плазменная частота электронов. В этом диапазоне8041-35.jpg и глубина скин-слоя8041-36.jpg, т. е. не зависит от частоты и выражается через концентрацию электронов и их эфф. массу т, т. к.8041-37.jpg .В этом же диапазоне коэф. п мал по сравнению с8041-38.jpg и взаимодействие электронов с поверхностью образца существенно влияет как на п, так и на поглощение энергии, пропорциональное мнимой части е. Сталкиваясь с поверхностью, электроны рассеиваются на статич. неоднородностях и тепловых поверхностных колебаниях (см. Поверхность ).Аномальный С--э. описывает ситуацию при8041-39.jpg ; он наблюдается в СВЧ-диапазоне в чистых металлах при низких темп-pax. Связь между плотностью тока l и полем Е является здесь нелокальной, т.е. значение тока в нек-рой точке проводника определяется полем в окрестности этой точки с размером ~ l. Задача о распределении поля сводится к интегро-дифференц. ур-нию, решение к-рого даёт, в частности, асимптотич. закон убывания поля Е. Наряду с компонентой, убывающей на расстоянии ~8041-40.jpg от поверхности, наблюдается медленное убывание на расстоянии ~l. Выражение для 8 в этом случае иное. Напр., для предельно аномального С--э., т. е. при8041-41.jpg, глубина скин-слоя
8041-42.jpg

При аномальном С. э. рассеяние электронов на поверхности образца мало сказывается на величине8041-43.jpg. Здесь существенную роль играют электроны с малыми углами скольжения, для к-рых отражение близко к зеркальному. Заметно влияет на аномальный С--э. пост. магн. поле Н, параллельное поверхности. Электроны, закручиваемые магн. полем, при зеркальном отражении многократно сталкиваются с поверхностью образца и долгое время двигаются в пределах скин-слоя. Это приводит к росту проводимости и уменьшению глубины скин-слоя
8041-44.jpg

где8041-45.jpg - ларморовский радиус; предполагается8041-46.jpg. Др. электроны, не сталкивающиеся с поверхностью, возвращаются в скин-слой после каждого оборота вокруг магн. поля, благодаря чему в металлах наблюдается циклотронный резонанс.

Более точный количеств. смысл как при нормальном, так и аномальном С--э. (в отличие от8041-47.jpg) имеет поверхностный импеданс Z .В НЧ-области нормального С--э.
8041-48.jpg

и уменьшается с темп-рой Т, т. к. растёт8041-49.jpg. Для предельно аномального С--э. импеданс
8041-50.jpg

где параметр В определяется спектром электронов; в изотропном приближении8041-51.jpg

Лит.: Ландау Л. Д., Л и ф ш и ц к. м., Электродинамика сплошных сред, 2 изд., М., 1982, с. 291-99; Л и ф ш и ц Е. М., Питаевский Л. П., Физическая кинетика, М., 1979, с. 436-49; F а 1 k о v s k у L. A., Transport phenomena at metal surfaces, «Adv. in Phys.», 1983, v. 32, № 5, p. 753; Aбрикосов А. А., Основы теории металлов, М., 1987, с. 105- 117. Л. А. Фальковский,

Скин-эффект нелинейный. При достаточно высоких значениях напряжённости перем. эл--магн. поля, когда параметры среды, напр. проводимость8041-52.jpg, начинают зависеть от поля, С--э. становится нелинейным, т. е. толщина скин-слоя8041-53.jpg также начинает зависеть от интенсивности эл--магн. поля. Наиб. легко нелинейный С--э. реализуется в плазме. Пороговые значения амплитуд электрич. и магн. полей, при к-рых происходит переход С--э. в нелинейный, зависят от параметров среды и частот.

В области НЧ определяющее влияние на проникновение поля оказывает дифференц. проводимость среды. Зависимость её от электрич. поля (т. н. электрическая нелинейность) обусловливается разогревом носителей, аномальным сопротивлением, пробоем среды и т. д. Пороговые амплитуды, при к-рых возникает нелинейность дифференц. электрич. проводимости, могут различаться весьма сильно для разных механизмов нелинейности. Вследствие этого затухание эл--магн. поля может быть не экспоненциальным, а, напр., степенным или к--л. другим в зависимости от вида8041-54.jpg, т. е. меняется структура скин-слоя. Но характерный масштаб затухания по порядку величины остаётся равным8041-55.jpg

Значительно большее влияние в этой области частот оказывают магнитные нелинейности, к-рые могут менять С--э. не только количественно, но и качественно. Их действие проявляется при условии8041-56.jpg , где8041-57.jpg - циклотронная частота носителей. В режиме магн. нелинейности С--э. необходимо учитывать тензорный характер сопротивления среды в магн. поле. Зависимость диагональных компонент сопротивления8041-58.jpg от Н (магнетосопротивление)аналогична влиянию электрич. нелинейностей. Недиагональные компоненты тензора сопротивления (см. Холла эффект)наиб. ярко проявляются в нестационарной задаче о проникновении в плазму постоянного магн. поля, включаемого в нек-рый момент времени t = 0. Тогда глубина проникновения поля в плазму меняется со временем:8041-59.jpg. В режиме нелинейного С--э. в зависимости от напряжённости магн. поля вместо обычного диффузионного закона проникновения магнитного поля, при к-ром8041-60.jpg происходит либо быстрое конвективное проникновение поля в плазму со скоростью порядка токовой скорости носителей (т. е.8041-61.jpg ), либо запирание поля на конечной толщине [т. е.8041-62.jpg]. Существ. роль в этих процессах играет неоднородность среды, а именно, если носители при токовом движении попадают в область более высокой своей концентрации, то реализуется конвективное проникновение, в противоположном случае - запирание.

При наложении на плазму переменного магн. поля может возникать эффект детектирования, состоящий в том, что наряду с формированием скин-слоя у границы плазмы в глубь среды уходит нелинейная волна поля нек-рого фиксиров. направления, зависящего от направления градиента концентрации носителей, а другие направления запираются.

В ИК-области, когда8041-63.jpg , нелинейные изменения происходят при8041-64.jpg, когда носителей в скин-слое толщиной с/wр не хватает для переноса тока даже при их движении со скоростью, близкой с. В результате глубина проникновения поля увеличивается (чтобы повысить число носителей) до необходимой для поддержания тока:8041-65.jpg. В области высоких частот8041-66.jpg толщина скин-слоя в плазме может как уменьшаться, так и возрастать в зависимости от знака нелинейного вклада в диэлектрич. проницаемость. В отличие от линейного режима, в случае нелинейного С--э. при медленном увеличении напряжённости поля оно, начиная с нек-рой пороговой амплитуды, проникает в глубь плазмы на расстояние, определяемое диссипативным затуханием. (Это происходит при положит. нелинейном вкладе.) В случае достаточно слабой диссипации нелинейное проникновение поля в плазму может носить характер гистерезиса, т. е. зависеть от предыстории процесса. Напр., для плазменного слоя конечной толщины эффективность Т проникновения эл--магн. волны через слой, измеряемая отношением потоков энергии после слоя и перед ним, является неоднозначной ф-цией интенсивности падающей волны l (как схематически показано на рис.).
8041-67.jpg

Зависимость эффективности проникновения Т электромагнитной волны через слой от её интенсивности I.

Наличие развитой турбулентности плазмы также приводит к изменению как динамики С--э., так и глубины скин-слоя, к-рая будет зависеть от интенсивности турбулентности, поскольку в нелинейном С--э. взаимодействие носителей с турбулентными пульсациями существенно меняет отклик плазмы на приложенное к ней поле. Это связано, в частности, с изменением эфф. частот соударений носителей vэф при их сильном рассеянии на турбулентных пульсациях. Напр., в изотропной бесстолкновит. плазме с развитой ионнозвуковой турбулентностью, имеющей характерные длины волн8041-68.jpg , скшювая глубина8041-69.jpg8041-70.jpg где ws - плотность энергии ионно-звуковых колебаний; пе, Те - концентрация и темп-pa электронов.

Глубина скин-слоя8041-71.jpg может резко возрастать, если в плазме возможны процессы трансформации приложенного к плазме перем. эл--магн. поля в слабозатухающие собств. колебания, напр. в ленгмюровские волны, к-рые переносят поле на расстояния порядка обратной величины декремента затухания этих волн (см. Трансформация волн в плазме).

Лит.: Цытович В. Н., Теория турбулентной плазмы, М., 1971; Владимиров В. В., В о л к о в А. Ф., М е л и х о в Е. 3., Плазма полупроводников, М., 1979; К о н д р а т е н к о А. Н., Проникновение поля в плазму, М., 1979; К и н г с е п А. С., Ч у к б а р К. В., Я н ь к о в В. В., Электронная магнитная гидродинамика, в сб.: Вопросы теории плазмы, в. 1В, М., 1987, с. 209; Кочетов А. В., М и р о н о в В. А., Динамика нелинейного просветления плотной плазмы, «Физика плазмы», 1990, т. 16, М 8, с. 948. Н. С. Ерохин, Н. В. Чукбар.

  Предметный указатель